28nm以上制程的成熟芯片有望實現全流程國產化了!
28nm雖然不是特別先進技術，但意義依然重大，因為這是芯片中低端和中高端的分界線，目前除了最先進的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工業級芯片大多都是28nm以上技術。
9月9日，工業和信息化部印發《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》的通知：
工作原理：深紫外光刻技術的革新
氟化氪光刻機與氟化氬光刻機都屬于深紫外(DUV)光刻機的范疇，它們的工作原理基于利用特定波長的光源通過光學系統和投影物鏡，將集成電路的微觀圖案精確地投影到硅片上的光刻膠層。這兩種光刻機的主要區別在于它們使用的光源波長：
氟化氪光刻機：采用248nm波長的光源，能夠實現110納米以下的分辨率，適用于多種集成電路制造工藝。
氟化氬光刻機：使用193nm波長的光源，提供更高的分辨率，能夠實現65納米以下的制程技術，為更精細的電路制造提供了可能。
技術意義：產業升級與自主可控
這兩種光刻機的出現，不僅是技術上的一次飛躍，更是產業自主化的重要里程碑：
技術突破：氟化氪與氟化氬光刻機的成功研發，標志著我國在高端光刻技術領域取得了顯著進展，為半導體制造提供了強有力的技術支持。
產業升級：高精度光刻機的引入，使得國內半導體產業能夠制造更復雜、更高性能的集成電路，推動了整個產業鏈的技術升級和產品創新。
經濟效益與國家安全：通過減少對外部技術的依賴，這些光刻機有助于提升國內半導體產業的自給自足能力，增強經濟和產業的安全性。
冷水機控溫：確保光刻機穩定運行的關鍵
在光刻機的運行過程中，精確的溫度控制對于保證光刻質量和產量至關重要。冷水機作為冷卻系統的核心組件，其作用不容小覷：
控溫需求：光刻機在曝光過程中對溫度極為敏感，因此需要冷水機提供高精度的溫度控制，以維持光刻機的穩定性和重復性。
冷水機的作用：通過循環冷卻水，冷水機能夠有效地帶走光刻機在運行中產生的熱量，確保設備在適宜的溫度范圍內工作，從而保障光刻過程的精確性和可靠性。
特域冷水機可為光刻機提供專業冷卻支持
特域冷水機超快激光冷水機CWUP系列，可以光刻機提供精密穩定持續控溫，其中CWUP-20ANP溫控精度達到±0.08℃，為精密加工領域提供高效的冷卻解決方案。
在半導體制造的精密世界里，光刻機是實現微細電路圖案轉移的核心設備。隨著技術的進步，氟化氪光刻機與氟化氬光刻機以其卓越的性能，成為了推動行業發展的重要力量。
